Christoph v. Kopylow

BIAS - Bremer Institut für angewandte Strahltechnik GmbH, Bremen Institute for Applied Beam Technology

4 papers

A2 · Talk · 112. Conference (2011)

Absolut-Abstandsreferenz für die Streifenreflexionstechnik zur Verringerung systematischer Messfehler

M. Sandner, W. Li, Th. Bothe, J. Burke, C. v. Kopylow, R. B. Bergmann

A10 · Talk · 109. Conference (2008)

Sichtstrahlkalibrierung für optisch abbildende Systeme

W. Li, T. Bothe, M. Schulte, C. v. Kopylow, N. Köpp, W. Jüptner

A23 · Talk · 109. Conference (2008)

Reflektometrie - ein flexibles und robustes Messverfahren für unterschiedlichste Anwendungen im Mikro- und Makrobereich

C. v. Kopylow, T. Bothe, M. Schulte, W. Li, N. Köpp

P16 · Poster · 109. Conference (2008)

Praxisgerechte Systemauslegung durch modulare analytische Messunsicherheitsmodellierung am Beispiel des Streifenprojektionssystems 3D-Kamera

T. Bothe, M. Schulte, W. Li, C. v. Kopylow, W. Jüptner