Herbert Gross

Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF
Institut für Angewandte Physik, Friedrich-Schiller-Universität Jena
Physikalisch-Technische Bundesanstalt

14 Beiträge

B24 · Vortrag · 126. Tagung (2025)

Homogenisierung partiell kohärenter Strahlung

H. Gross
H2 · Hauptvortrag · 126. Tagung (2025)

Simulation und Tolerierung optischer Systeme mit Freiformflächen

H. Gross
B23 · Vortrag · 124. Tagung (2023)

Higher-order aberration and sensitivity analysis of symmetry-free optical systems

Z. Tang, H. Gross
A11 · Vortrag · 123. Tagung (2022)

Bestimmung der besten Freiformposition sowie einer Startgeometrie der Fläche vor der Optimierung am Beispiel eines abbildenden Mehrspiegeldesigns

B. Satzer, M. Kazimierska, F. R. Widiasari, H. Gross, R. Brüning
H4 · Hauptvortrag · 123. Tagung (2022)

History and New Insights: Design of Microscope Objectives

Y. Zhang, H. Gross
H5 · Hauptvortrag · 121. Tagung (2020)

Theorie und Bedeutung von Induzierte Farbfehlern

A. Berner, H. Gross
B37 · Vortrag · 119. Tagung (2018)

Angle Resolved Light Scattering Microscope

Y. Sekman, S. Schröder, H. Gross
B23 · Vortrag · 118. Tagung (2017)

Effects of striae in optical glass on optical systems – first results

S. Reichel, S. Gärtner, P. Hartmann, U. Petzold, H. Gross
B27 · Vortrag · 118. Tagung (2017)

Berechnung von Abbildungsfehlern 3. Ordnung für Spiegelsysteme mit verkippten und dezentrierten Elementen

B. Satzer, U. Lippmann, G. Notni, H. Gross
B23 · Vortrag · 115. Tagung (2014)

Feldpropagation auf schiefe Ebenen und Transmission mit verallgemeinerten Fresnelkoeffizienten im Frequenzraum

M. Tessmer, H. Gross
P14 · Poster · 114. Tagung (2013)

Untersuchungen zum Einfluss verwendeter Näherungen in der Scatterometrie

J. Endres, S. Burger, A. Diener, H. Gross, M.-A. Henn, S. Heidenreich, M. Wurm, B. Bodermann
A28 · Vortrag · 113. Tagung (2012)

Towards traceability in scatterometric-optical dimensional metrology for optical lithography

B. Bodermann, J. Endres, H. Gross, M.-A. Henn, A. Kato, F. Scholze, M. Wurm
B35 · Vortrag · 108. Tagung (2007)

Numerische Analyse des Potentials der DUV-Scatterometrie zur Charakterisierung von EUV-Photomasken

B. Bodermann, M. Wurm, R. Model, H. Gross
H7 · Hauptvortrag · 107. Tagung (2006)

Scatterometrie: optische 3D-Charakterisierung strukturierter Oberflächen ohne (Beugungs-) Grenzen?

M. Wurm, B. Bodermann, H. Gross, A. Rathsfeld