Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen auf gekrümmten Oberflächen mittels Soft UV-Nanoimprint Lithografie in Kombination mit Plasmaätzverfahren
- Fachgebiet Technische Optik, Technische Universität Ilmenau
thomas [dot] handte [at] tu-ilmenau [dot] de
Die mikroskalige Strukturierung gekrümmter Oberflächen gewinnt immer mehr an Bedeutung, z.B. für Anwendungen in der (Mikro-)Sensorik, der Medizintechnik und nicht zuletzt für Beleuchtungseinrichtungen in der Automobilindustrie. Derzeit ist die Tiefenschärfe eines Projektionssystems bei der konventionellen UV-Lithografie auf gekrümmten Substraten ein limitierender Faktor. Mit Hilfe volumenholografischer Lithografieverfahren kann dieser Nachteil zwar überwunden werden, wobei jedoch die Designfreiheit von Strukturen ggf. eingeschränkt wird. Die soft UV-Nanoimprint Lithografie (soft UV-NIL) ermöglicht eine gleichmäßige Abformung beliebig geformter Strukturen in Fotolack auf stark gekrümmten Oberflächen und ist dabei nicht durch optische Effekte limitiert. Das Prägeverfahren ermöglicht unter Einsatz eines weichen Polydimethylsiloxan (PDMS)-Stempels die Übertragung von Strukturen mit Abmessungen bis in den Nanometerbereich. In diesem Beitrag wird am Beispiel von nanostrukturierten Mikrolinsenarrays der Prozess der soft UV-NIL in Kombination mit dem plasmabasierten Ätzen von Siliziumdioxid vorgestellt.
@inproceedings{handte2022b32,
author = {Handte, Thomas and Sinzinger, Stefan},
title = {{Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen auf gekrümmten Oberflächen mittels Soft UV-Nanoimprint Lithografie in Kombination mit Plasmaätzverfahren}},
booktitle = {DGaO-Proceedings 2022},
series = {DGaO-Proceedings},
eventtitle = {123. Jahrestagung der DGaO},
eventdate = {2022-06-08/2022-06-11},
venue = {Pforzheim},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
year = {2022},
pages = {B32},
url = {https://dgao-proceedings.de/paper/123-b32}
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