Angepasste Interferenzgitter für spektroskopische und Laser-Anwendungen von EUV bis NIR
- 1Carl Zeiss Jena GmbH
- 2Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V.
- 3Fakultät Maschinenbau, Technische Universität Ilmenau
matthias [dot] burkhardt [at] zeiss [dot] com
Durch die Trends im Bereich der High-End-Spektralmess-Systeme, durch die Auslegungen aktueller Seriengeräte sowie auch durch den Einsatz in Kurzpulslasersystemen ergeben sich stetig wachsende Anforderungen an die dispersiven Elemente. Sehr häufig stellt die Interferenzlithografie die beste – wenn nicht gar die einzige – technologische Option dar. Mit ihr gelingt auch die Realisierung massereicher, gekrümmter und/oder großflächiger monolithischer Beugungsoptiken. Kennzeichnend ist weiterhin eine sehr variable Strichzahlverteilung, hohe Beugungseffizienz durch die Vielfalt an erreichbaren Profilformen und hervorragende Werte in Bezug auf das Streulichtniveau. An Hand von Beispielen wird veranschaulicht, welchen Stand diese Technologie, insbesondere auch in Verbindung mit Ionenstrahlätzverfahren, im Hause ZEISS erreicht hat.
@inproceedings{burkhardt2018a28,
author = {Burkhardt, Matthias and Koch, Felix and Kalies, Alexander and Erdmann, Lars and Helgert, Michael and Pesch, Alexander and Schönbrodt, Oliver and Frost, Frank and Finzel, Annemarie and Lehr, Dennis and Gatto, Alexandre and Sinzinger, Stefan},
title = {{Angepasste Interferenzgitter für spektroskopische und Laser-Anwendungen von EUV bis NIR}},
booktitle = {DGaO-Proceedings 2018},
series = {DGaO-Proceedings},
eventtitle = {119. Jahrestagung der DGaO},
eventdate = {2018-05-23/2018-05-26},
venue = {Aalen},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
year = {2018},
pages = {A28},
url = {https://dgao-proceedings.de/paper/119-a28}
}