Streulichtarme holografische Blaze-Gitter für den EUV-Bereich
- 1Carl Zeiss Jena GmbH
- 2Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V.
- 3AG 7.12 EUV-Radiometrie, Physikalisch-Technische Bundesanstalt
- 4Fakultät Maschinenbau, Technische Universität Ilmenau
matthias [dot] burkhardt [at] zeiss [dot] com
Durch eine Prozessoptimierung ist es möglich, auf der Basis holografisch hergestellter blaze-förmiger Resistgitter in Kombination mit einer abgestimmten Ätztechnologie, besonders streulichtarme EUV-Gitter zu erzeugen. Neben der sehr gleichmäßigen und nahezu idealen Blaze-Struktur in der Resistmaske stellt die Realisierung großflächiger Gitter dieser Art unter Erhalt der Substratgeometrie im Sub-Wellenlängenbereich eine besondere Herausforderung dar. Wir stellen die technologische Umsetzung vor und präsentieren Ergebnisse von Anwendungen entsprechend realisierter Grazing-Incidence-Gratings im Wellenbereich um 13,5nm.
@inproceedings{burkhardt2014p19,
author = {Burkhardt, Matthias and Fechner, Renate and Flamm, Daniel and Frost, Frank and Gatto, Alexandre and Laubis, Christian and Scholze, Frank and Sinzinger, Stefan and Soltwisch, Victor},
title = {{Streulichtarme holografische Blaze-Gitter für den EUV-Bereich}},
booktitle = {DGaO-Proceedings 2014},
series = {DGaO-Proceedings},
eventtitle = {115. Jahrestagung der DGaO},
eventdate = {2014-06-11/2014-06-14},
venue = {Karlsruhe},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
year = {2014},
pages = {P19},
url = {https://dgao-proceedings.de/paper/115-p19}
}
115. Jahrestagung der DGaO · Karlsruhe · 2014