Streulichtarme holografische Blaze-Gitter für den EUV-Bereich

Durch eine Prozessoptimierung ist es möglich, auf der Basis holografisch hergestellter blaze-förmiger Resistgitter in Kombination mit einer abgestimmten Ätztechnologie, besonders streulichtarme EUV-Gitter zu erzeugen. Neben der sehr gleichmäßigen und nahezu idealen Blaze-Struktur in der Resistmaske stellt die Realisierung großflächiger Gitter dieser Art unter Erhalt der Substratgeometrie im Sub-Wellenlängenbereich eine besondere Herausforderung dar. Wir stellen die technologische Umsetzung vor und präsentieren Ergebnisse von Anwendungen entsprechend realisierter Grazing-Incidence-Gratings im Wellenbereich um 13,5nm.