Streulichtarme holografische Blaze-Gitter für den EUV-Bereich
- 1Carl Zeiss Jena GmbH
- 2Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V., Leibniz Institute of Surface Engineering
- 3Working Group 7.12 EUV Radiometry, Physikalisch-Technische Bundesanstalt (German National Metrology Institute)
- 4Department of Mechanical Engineering, Technische Universität Ilmenau
Durch eine Prozessoptimierung ist es möglich, auf der Basis holografisch hergestellter blaze-förmiger Resistgitter in Kombination mit einer abgestimmten Ätztechnologie, besonders streulichtarme EUV-Gitter zu erzeugen. Neben der sehr gleichmäßigen und nahezu idealen Blaze-Struktur in der Resistmaske stellt die Realisierung großflächiger Gitter dieser Art unter Erhalt der Substratgeometrie im Sub-Wellenlängenbereich eine besondere Herausforderung dar. Wir stellen die technologische Umsetzung vor und präsentieren Ergebnisse von Anwendungen entsprechend realisierter Grazing-Incidence-Gratings im Wellenbereich um 13,5nm.
@inproceedings{dgao115-p19,
title = {Streulichtarme holografische Blaze-Gitter für den EUV-Bereich},
author = {Matthias Burkhardt, Renate Fechner, Daniel Flamm, Frank Frost, Alexandre Gatto, Christian Laubis, Frank Scholze, Stefan Sinzinger, Victor Soltwisch},
booktitle = {DGaO-Proceedings, 115. Jahrestagung},
year = {2014},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
issn = {1614-8436},
note = {Poster P19}
}
115. Annual Conference of the DGaO · Karlsruhe · 2014