Über die Verminderung der Depolarisation in einem DUV-Objektiv mit großer numerischer Apertur - eine Fallstudie
- JENOPTIK Optical Systems GmbH
stefan [dot] mueller-pfeiffer [at] jenoptik [dot] com
Die schrumpfenden Strukturabmessungen in der Halbleiterindustrie machen das Finden und Identifizieren von herstellungsbedingten Defekten in der Waferfertigung immer schwieriger. In [1] wurde gezeigt, daß die Verwendung von polarisiertem Licht eine deutliche Verbesserung des Signal-Rausch-Verhältnisses bei der Detektion von Punktdefekten in Linienstrukturen im Vergleich zu unpolarisiertem Licht ermöglicht. Wegen der begrenzten Zahl von Materialien, die sich für die Verwendung in DUV-Optiken eignen, ist die Herstellung eines polarisationsneutralen DUV-Objektives eine ernsthafte technische Herausforderung. Wir diskutieren eine Reihe von Möglichkeiten zur Beeinflussung der (AR-)Schichteigenschaften, die zu einer wesentlichen Verminderung des Polarisationseinflusses führen, einschließlich einer Betrachtung der Fertigbarkeit. [1] B.-H. Lee et al., Proc. SPIE, Vol. 6152, 61521Q (2006); DOI:10.1117/12.656004
@inproceedings{muellerpfeiffer2011b18,
author = {Müller-Pfeiffer, Stefan and Finster, J. and Falkenstörfer, Oliver},
title = {{Über die Verminderung der Depolarisation in einem DUV-Objektiv mit großer numerischer Apertur - eine Fallstudie}},
booktitle = {DGaO-Proceedings 2011},
series = {DGaO-Proceedings},
eventtitle = {112. Jahrestagung der DGaO},
eventdate = {2011-06-15/2011-06-18},
venue = {Ilmenau},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
year = {2011},
pages = {B18},
url = {https://dgao-proceedings.de/paper/112-b18}
}