Herstellung von Mikrogittern in optischen Gläsern mittels Ultrakurzpulslaserablation
- Institut für Mikrotechnologien, Hochschule RheinMain
Christian [dot] b [dot] Warneke [at] student [dot] hs-rm [dot] de
In der Wellenleiter-Evaneszensfeld-Fluoreszens-Mikroskopie (WEFF-Mikroskopie) werden optische Gitter an der Grenzfläche des Wellenleiters zur Einkopplung eines Laserstrahls verwendet, sodass die geführte Mode das benötigte evanszente Feld erzeugen kann. Diese Koppelgitter werden normalerweise mittels aufwändiger UV-Laserlithographie hergestellt. Dieser Beitrag untersucht die Umsetzbarkeit der Koppelgitter auf HEBO FQVIS2 Quarzglas mittels Femtosekundenlaserprozessierung. Es werden Gitter im Raster-Verfahren geschrieben und mit im UV-Laserlithographieverfahren hergestellten Referenzproben in Bezug auf Gitterkonstante, Gitteramplitude und optische Nutzbarkeit verglichen. Mit dem Rasterverfahren werden Gitter mit 30-fach größeren Gitteramplituden im Vergleich zur UV-Laserlithographie hergestellt und Gitterkonstanten von Λ = 2 µm realisiert sowie ein Verfahren zur weiteren Reduzierung der Gitterkonstanten aufgezeigt.
@inproceedings{warneke2019a33,
author = {Warneke, Christian and Kuhl, Jonas and Lebershausen, Ingo and Völklein, Friedemann and Kontermann, Stefan},
title = {{Herstellung von Mikrogittern in optischen Gläsern mittels Ultrakurzpulslaserablation}},
booktitle = {DGaO-Proceedings 2019},
series = {DGaO-Proceedings},
eventtitle = {120. Jahrestagung der DGaO},
eventdate = {2019-06-12/2019-06-15},
venue = {Darmstadt},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
year = {2019},
pages = {A33},
url = {https://dgao-proceedings.de/paper/120-a33}
}