Anwendung der Tiefenlithographie für die Spleißung von Monomodefasern

  1. Lehrstuhl für Optoelektronik, Institut für Technische Informatik, Universität Heidelberg

xiyuan.liu@ziti.uni-heidelberg.de

Im Beitrag wird ein alternatives Verfahren zur gängigen Spleiß-Technik von Monomodefasern vorgestellt. Das Verfahren beruht auf der Herstellung von Faserführungsstrukturen, die durch Tiefenlithographie und Abformung hergestellt werden. Die vertikale Faserpositionierung wird durch "Undercut"-Strukturierung der Strukturwände sichergestellt. Hierbei verjüngt sich die Breite der Faserführung nach unten und erzwingt damit eine Klemmung der Faser. Durch Fixierung mit UV-härtbarem Polymer wird ferner eine Indexanpassung erreicht. In Vorexperimenten wurde eine Dämpfung von ca. -0.02 dB erreicht. Der gesamte Fertigungsprozess und Messergebnisse werden im Poster ausführlich vorgestellt.

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@inproceedings{dgao109-p40, title = {Anwendung der Tiefenlithographie für die Spleißung von Monomodefasern}, author = {Xiyuan Liu, Karl-Heinz Brenner}, booktitle = {DGaO-Proceedings, 109. Jahrestagung}, year = {2008}, publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.}, issn = {1614-8436}, note = {Poster P40} }
109. Jahrestagung der DGaO · Esslingen · 2008