Anwendung der Tiefenlithographie für die Spleißung von Monomodefasern
- Lehrstuhl für Optoelektronik, Institut für Technische Informatik, Universität Heidelberg
xiyuan [dot] liu [at] ziti [dot] uni-heidelberg [dot] de
Im Beitrag wird ein alternatives Verfahren zur gängigen Spleiß-Technik von Monomodefasern vorgestellt. Das Verfahren beruht auf der Herstellung von Faserführungsstrukturen, die durch Tiefenlithographie und Abformung hergestellt werden. Die vertikale Faserpositionierung wird durch "Undercut"-Strukturierung der Strukturwände sichergestellt. Hierbei verjüngt sich die Breite der Faserführung nach unten und erzwingt damit eine Klemmung der Faser. Durch Fixierung mit UV-härtbarem Polymer wird ferner eine Indexanpassung erreicht. In Vorexperimenten wurde eine Dämpfung von ca. -0.02 dB erreicht. Der gesamte Fertigungsprozess und Messergebnisse werden im Poster ausführlich vorgestellt.