Anwendung der Tiefenlithographie für die Spleißung von Monomodefasern
- Lehrstuhl für Optoelektronik, Institut für Technische Informatik, Universität Heidelberg
xiyuan.liu@ziti.uni-heidelberg.de
Im Beitrag wird ein alternatives Verfahren zur gängigen Spleiß-Technik von Monomodefasern vorgestellt. Das Verfahren beruht auf der Herstellung von Faserführungsstrukturen, die durch Tiefenlithographie und Abformung hergestellt werden. Die vertikale Faserpositionierung wird durch "Undercut"-Strukturierung der Strukturwände sichergestellt. Hierbei verjüngt sich die Breite der Faserführung nach unten und erzwingt damit eine Klemmung der Faser. Durch Fixierung mit UV-härtbarem Polymer wird ferner eine Indexanpassung erreicht. In Vorexperimenten wurde eine Dämpfung von ca. -0.02 dB erreicht. Der gesamte Fertigungsprozess und Messergebnisse werden im Poster ausführlich vorgestellt.
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@inproceedings{dgao109-p40,
title = {Anwendung der Tiefenlithographie für die Spleißung von Monomodefasern},
author = {Xiyuan Liu, Karl-Heinz Brenner},
booktitle = {DGaO-Proceedings, 109. Jahrestagung},
year = {2008},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
issn = {1614-8436},
note = {Poster P40}
}
109. Jahrestagung der DGaO · Esslingen · 2008