Herstellung Diffraktiv Optischer Elemente mittels Nahfeldlithografie
- Fachhochschule Oldenburg/Ostfriesland/Wilhelmshaven
hauke [dot] buse [at] fho-emden [dot] de
Um den Beugungswirkungsgrad Diffraktiv Optischer Elemente (DOEs) zu erhöhen, ist die Herstellung von Unterstrukturen notwendig, die Strukturbreiten im Submikrometerbereich erfordern. Eine Möglichkeit hierzu stellt die Nahfeldlithografie (SNOL – Scanning Nearfield Optical Lithography) mit speziell präparierten Glasfaserspitzen dar. Durch die sehr feine Apertur im Bereich einiger 100nm und deren geringen Abstand zur Photolackoberfläche (etwa 25nm) wird diese punktgenau belichtet. Es wird ein Überblick über die verwendeten technischen Komponenten, sowie die Herstellung der Glasfaserspitzen für SNOL mittels Ätztechniken gegeben.
@inproceedings{buse2006p43,
author = {Buse, Hauke and Ahnepohl, F. and Buchmüller, Frank and Parkin, Robert and Kreitlow, Horst},
title = {{Herstellung Diffraktiv Optischer Elemente mittels Nahfeldlithografie}},
booktitle = {DGaO-Proceedings 2006},
series = {DGaO-Proceedings},
eventtitle = {107. Jahrestagung der DGaO},
eventdate = {2006-06-07/2006-06-10},
venue = {Weingarten},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
year = {2006},
pages = {P43},
url = {https://dgao-proceedings.de/paper/107-p43}
}
107. Jahrestagung der DGaO · Weingarten · 2006