Herstellung synthetischer Mehrstufen-Hologramme mittels eines Scanning Nearfield Optical Lithography (SNOL) -Systems
- Fachhochschule Oldenburg/Ostfriesland/Wilhelmshaven
warnke [at] hermes [dot] fho-emden [dot] de
Durch die Erhöhung der Stufenanzahl im Profil der Mikrostruktur synthetischer Holgramme kann die Beugungseffizienz und der Kontrast erheblich verbessert werden. So erreichen z.B. digitale Hologramme mit 8 Stufen eine theoretische Beugungseffizienz von 95%. Durch den Einsatz eines Scanning Nearfield Optical Lithography (SNOL) -Systems kann die Begrenzung durch die optische Auflösung umgangen werden. Die Belichtungsparameter des SNOL-Systems werden so weit optimiert, dass mehrstufige Strukturen in die Fotolackschicht eingeschrieben werden können. Die Strukturgrößen der Stufen der synthetischen Hologramme liegen dadurch im Sub-Mikrometerbereich. Neben der Vorstellung der technischen Ausführung des Verfahrens werden Ergebnisse zur Herstellung synthetischer Mehrstufen-Hologramme präsentiert.
@inproceedings{warnke2004p28,
author = {Warnke, V. and Miesner, J. and Bünting, Andreas and Kreitlow, Horst},
title = {{Herstellung synthetischer Mehrstufen-Hologramme mittels eines Scanning Nearfield Optical Lithography (SNOL) -Systems}},
booktitle = {DGaO-Proceedings 2004},
series = {DGaO-Proceedings},
eventtitle = {105. Jahrestagung der DGaO},
eventdate = {2004-06-02/2004-06-05},
venue = {Bad Kreuznach},
publisher = {Deutsche Gesellschaft für angewandte Optik e.V.},
year = {2004},
pages = {P28},
url = {https://dgao-proceedings.de/paper/105-p28}
}