Kristian Motzek

Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB, Fraunhofer Institute for Integrated Systems and Device Technology IISB

1 paper

P17 · Poster · 112. Conference (2011)

Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization

U. Vogler, A. Bramati, R. Völkel, M. Hornung, R. Zoberbier, K. Motzek, A. Erdmann, L. Stürzebecher, U. Zeitner