Ralph Zoberbier

SUSS MicroOptics SA

SUSS MicroTec Lithography GmbH

2 Beiträge

B22 · Vortrag · 112. Tagung (2011)

Optimierung des Beleuchtungssystem eines Mask Aligners (MO Exposure Optics)

U. Vogler, A. Bich, M. Hornung, R. Zoberbier, R. Völkel, S. Sinzinger

P17 · Poster · 112. Tagung (2011)

Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization

U. Vogler, A. Bramati, R. Völkel, M. Hornung, R. Zoberbier, K. Motzek, A. Erdmann, L. Stürzebecher, U. Zeitner